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0728|资本开支分歧与模型的开源闭源之争 422929624854(机构会议)
本期汇报分三部分聚焦科技产业热点。资本开支方面,谷歌从1800-1900亿上调至1950-2500亿,英特尔上调至200亿,台积电2027年代工价格上调10%,五大云厂商2026年合计资本开支约7900-8250亿;但云厂商自由现金流已转负,Oracle债务风险升至2018年以来最高,叠加美债收益率上行与劳动力数据超预期,市场对资本开支的利好利空存在明显分歧。CPU方面,英特尔Q2营收超预期11.76%,AI驱动业务同比增长超70%,AMD将服务器CPU市场空间上调至2200亿美元。模型方面,K3发布引发开源闭源之争,NVIDIA等25家机构发布支持开源声明,中国开源模型全球领先,Kimi和智谱表现最强。
0728|碳酸锂加速去库 行业高景气等待市场定价(机构会议)
我这边先总体谈一下。我们认为,当下有色板块各品种的行情有一定的趋同性。总结来讲,在之前的这段时间,有色板块主要是在对弱预期做定价。2026年全年,板块估值持续下压,市场讨论的重点都是对2027年或接下来宏观环境预期不太乐观。很多时候,这种对弱预期的定价,忽视了品种自身的强现实情况。具体表现就是,股票
0728|时隔4个月再次强Call锂电新能源车(机构会议)
时隔4个月再次强Call锂电新能源车。 首先,宁德时代通过巨额回购,是非常大的对市场的定心丸。龙头企业对全球需求的展望,很大程度上会成为市场预期。同时,宁德时代通过巨额增持和巨额回购,表达了对公司股价和行业的信心,是用真金白银来强化其观点。周一宁德时代大概率会高开高走。 其次,目前时间点上,8月逐步
0728|如何把握后续的科技硬件修复机会(机构会议)
首先,我们从流动性维度来看,下半年市场会从成长风格占绝对优势的状态,进入一个风格拉锯的状态。但AI产业趋势仍留有一定的想象空间,这为后续科技行情出现分化修复提供了基础。 成长风格的见顶,一般由流动性预期拐点和产业趋势拐点共振决定。今年确实是一个全球流动性的拐点——日本、欧洲、韩国等央行陆续进入加息周
0728|如何把握后续的科技硬件修复机会 422929624854(机构会议)
首先,我们从流动性维度来看,下半年市场会从成长风格占绝对优势的状态,进入一个风格拉锯的状态。但AI产业趋势仍留有一定的想象空间,这为后续科技行情出现分化修复提供了基础。 成长风格的见顶,一般由流动性预期拐点和产业趋势拐点共振决定。今年确实是一个全球流动性的拐点——日本、欧洲、韩国等央行陆续进入加息周
0728|星球动态 问答(击球区小能手)
· 这些巨大的数字看起来挺吓人…… 我们来稍微拆解一下。英伟达拟议中的 2500 亿美元 OpenAI 兜底担保,并不是预先开出一张 2500 亿美元的支票,这点确实应该敲响警钟。 ?看起来,随着俄亥俄州 10 吉瓦园区的建设,这项安排将为一系列融资载体提供担保(即在整个建设过程中设立多个独立的特殊
0728|星球动态 问答 422929624854(击球区小能手)
英伟达拟为OpenAI提供2500亿美元兜底担保,实际并非一次性支出,而是通过多个SPV分阶段为俄亥俄州10吉瓦园区融资,按不同期限设定费率:10年期约208美元/千瓦·月,15年期139美元,20年期104美元,均贴近或低于当前市场租金。首期800兆瓦预计2028年投运,英伟达季度自由现金流近500亿美元,常规履约能力可控,真正的风险集中在OpenAI违约、AI需求下滑叠加芯片收入下降的场景,且具体触发条款尚未披露。国产光刻机方面,宇量昇28nm DUV已量产,单次曝光可达16nm,明年开始放量,但EVL仍需等待。AI基建正从轻资产模式转向高度金融化,需求与订单之间多出信用利差、长期利率、项目融资等中间环节,5家hyperscaler到2027年新增Capex约5340亿美元,对应经营现金流约3400亿美元,缺口由债券、私人信贷和SPV填补,因此半导体投资需同步关注债市与流动性。
0728|星球动态 问答 29624854(击球区小能手)
· 这些巨大的数字看起来挺吓人…… 我们来稍微拆解一下。英伟达拟议中的 2500 亿美元 OpenAI 兜底担保,并不是预先开出一张 2500 亿美元的支票,这点确实应该敲响警钟。 ?看起来,随着俄亥俄州 10 吉瓦园区的建设,这项安排将为一系列融资载体提供担保(即在整个建设过程中设立多个独立的特殊
0728|星球动态(冷局的策略空间)
艺术设计:Mike Sullivan 1. 由 The Information 员工报道 Jul 27, 2026, 6:01am PDT 一家中国国有背景企业已首次开始制造芯片制造过程中使用的关键设备之一,这是北京方面推动减少对外国芯片制造技术依赖的重要进展。 据两位知情人士透露,这家总部位于上海
0728|星球动态 422929624854(冷局的策略空间)
一家中国国有背景企业已开始量产浸没式深紫外光刻机,计划今年生产约5台,2027年达20台。该设备主要用于将电路图案印制到硅晶圆上,是芯片制造的关键设备。初步产品将交付给中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等本土芯片厂商,用于扩大成熟芯片产能,包括AI服务器和数据中心所需的电源管理组件。在美国出口限制背景下,这一突破标志着中国本土芯片产业取得进展,但与ASML去年交付的131台相比,产量仍极小,且设备在性能、精度和可靠性上仍落后于ASML。此外,中国仍在研发国产EUV光刻机,目前仍处原型阶段,距离商用仍需数年。